背景簡介
超聲掃描成像檢測,是無損檢測領(lǐng)域的核心檢測手段之一。在大眾比較熟悉的醫(yī)療領(lǐng)域,基于超聲成像當(dāng)前已經(jīng)發(fā)展出了超聲醫(yī)療及超聲探傷兩大領(lǐng)域。而在第三方檢測應(yīng)用里,主要應(yīng)用場景還是基于超聲成像的電子元器件的超聲掃描檢查以發(fā)現(xiàn)電子元器件無法直接觀察的內(nèi)部缺陷。
基本原理
超聲波一般是指頻率大于20KHz的聲波,具有頻率高,波長短的特性,使其能夠沿著直線在介質(zhì)中傳播:直線傳播的特性給通過超聲定點(diǎn)掃描提供了基礎(chǔ)。
超聲波作為一種機(jī)械波,其傳播是以介質(zhì)材料內(nèi)分子的機(jī)械振動而產(chǎn)生的。介質(zhì)內(nèi)的分子間距越小,則超聲波傳播的速度越快,因此不同介質(zhì)的分子間距差異導(dǎo)致其聲阻抗存在差異。這種聲阻抗差異使得超聲波在不同材料的界面發(fā)生可被記錄的反射及透射。
超聲掃描顯微鏡正是利用超聲波的直線傳播,界面反射及透射的特性進(jìn)行工作。
具體而言,超聲波換能器向電子元器件表面發(fā)射一束超聲脈沖信號,通過耦合液向器件內(nèi)部進(jìn)行傳播。信號每通過一層界面都會反射一部分信號由超聲換能器接收進(jìn)行成像,這種成像方式被稱之為反射式掃描。另有一部分信號透過界面繼續(xù)向下層傳播,最后穿過所有界面由樣品下方的信號接收探頭接收,這種方式被稱為透射式掃描(T掃)。
通過反射式掃碼及透射式掃描,超聲掃描顯微鏡即可記錄超聲波的變化從而對電子元器件進(jìn)行無損檢測。
超聲掃描顯微鏡
設(shè)備參數(shù)
1、掃描范圍≤320mmX320mm;最小掃描范圍 200μm×200μm;
2、X、Y軸掃描速度:不小于1000mm/s,速度可調(diào);
3、重復(fù)精度 ±0.1μm;
4、主要掃描模式包括:A掃描(點(diǎn)掃描)、B掃描(縱向掃描)、C掃描(水平掃描)、多層C掃描、多重門限掃描、透射掃描、托盤掃描。
掃描模式
A掃模式:A-掃為點(diǎn)掃模式,對當(dāng)前界面某一點(diǎn)進(jìn)行掃描,可以用來對當(dāng)前界面一些異常位置進(jìn)行確認(rèn)。
A 掃描模式
B掃模式:B-掃描相當(dāng)于觀察樣品的橫截面,可以用來確定缺陷在縱向方向上的位置和深度。
B 掃描模式
C掃模式:C-掃描相當(dāng)于觀察樣品的剖面,通過時間窗口的選擇可以確定剖面的位置和寬度,并將窗口選擇在所需觀察的界面位置,從而得到缺陷的數(shù)量和外形尺寸。
C 掃描模式
X掃模式:X-掃描相當(dāng)于多次等分的不同層面C-掃描,通過一次掃描的方式得到多個不同深度位置的圖像,適合與多層結(jié)構(gòu)的器件檢測。
X 掃描模式
T掃模式:T-掃描是在樣品底部加裝一個接收探頭,在做C-掃描的同時進(jìn)行透射T-掃描,可以用來確認(rèn)C-掃描圖像中的無法判明的缺陷。
T 掃描模式
缺陷判定
超聲波入射到樣品中,具有如下的特性:當(dāng)超聲波從密度高的介質(zhì)進(jìn)入密度低的介質(zhì)時會發(fā)生半波損失,或稱為“相位翻轉(zhuǎn)"。
當(dāng)電子元器件樣品內(nèi)有空隙分層時,樣品內(nèi)空隙分層位置的介質(zhì)密度通常小于其它介質(zhì)密度,通過超聲波的半波損失原理可以用來判斷樣品內(nèi)的分層缺陷。
典型案例
服務(wù)能力
超聲掃描顯微鏡的檢測能力主要與超聲掃描探頭的頻率相關(guān),頻率越高,分辨率越高,穿透能力越差;焦距越長,分辨率越低,穿透能力越強(qiáng)。
廣電計量元器件篩選及失效分析實(shí)驗(yàn)室目前配備了15/30/35/110/125/230 MHZ的探頭,能夠?qū)ζ胀ㄋ芊馄骷?、FCBGA高階封裝器件、功率器件、IGBT模塊等各種不同封裝尺寸及應(yīng)用領(lǐng)域的器件進(jìn)行檢測分析。可基于超聲掃描顯微鏡進(jìn)行元器件質(zhì)量抽檢、批次性元器件篩選、封裝失效定位、潮濕敏感等級、可靠性試驗(yàn)后輔助分析等。